[发明专利]电子零件用钛铜无效
申请号: | 201080053888.5 | 申请日: | 2010-10-18 |
公开(公告)号: | CN102686755A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 江良尚彦;堀江弘泰 | 申请(专利权)人: | JX日矿日石金属株式会社 |
主分类号: | C22C9/00 | 分类号: | C22C9/00;C22F1/08;C22F1/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 孔青;李炳爱 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供虽然积极析出作为稳定相的TiCu3,但强度和弯曲加工性优异的钛铜。电子零件用铜合金,其为含有2.0~4.0%质量的Ti,残余部分由铜和不可避免的杂质组成的电子零件用铜合金,在通过电子显微镜对平行于辊轧方向的截面进行的组织观察中,存在含有沿结晶晶界析出的Ti-Cu系粒子的晶界反应相,对于各个晶界反应相而言,包围晶界反应相的最小圆直径D2相对于晶界反应相所包围的最大圆直径D1之比(D2/D1)的平均值Avg(D2/D1)为1.0~6.0,D1的平均值AvgD1为0.4~2.0μm,此外晶界反应相在每1000μm2的观察视野中占1.5~15%的面积。 | ||
搜索关键词: | 电子零件 用钛铜 | ||
【主权项】:
电子零件用铜合金,其为含有2.0~4.0%质量的Ti、残余部分由铜和不可避免的杂质组成的电子零件用铜合金,在通过电子显微镜对平行于辊轧方向的截面进行的组织观察中,存在含有沿结晶晶界析出的Ti‑Cu系粒子的晶界反应相,对于各个晶界反应相而言,包围晶界反应相的最小圆直径D2相对于晶界反应相所包围的最大圆直径D1之比(D2/D1)的平均值Avg(D2/D1)为1.0~6.0,D1的平均值AvgD1为0.4~2.0μm,此外晶界反应相在每1000μm2的观察视野中占1.5~15%的面积。
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