[发明专利]微分相位对比成像系统的校准

摘要

本发明涉及X射线成像系统和用于对对象进行微分相位对比成像的方法。为了改进微分相位对比成像系统的校准和光栅的对准，提供一种X射线成像系统，包括提供至少部分相干的X射线辐射的X射线发射装置和包括全部沿着光轴设置的相位偏移衍射光栅、相位分析器光栅和X射线图像检测器的X射线检测装置。为了步进，光栅和/或X射线发射装置提供有相对于光轴彼此相对设置的至少两个致动器。为了校准，在无对象的情况下获取校准投射，其中所发射的X射线辐射或一个光栅以校准移位值逐步移位。为了检查，在有对象的情况下获得测量投射，其中所发射的X射线辐射或一个光栅以测量逐步移位，通过将测量投射与校准投射配准，将校准投射关联到每个测量投射。

主权项

用于对对象进行微分相位对比成像的X射线成像系统，包括：X射线发射装置（12）；以及X射线检测装置（16）；其中，所述X射线发射装置（12）提供至少部分相干的X射线辐射（26）；其中，所述X射线检测装置（16）包括：相位偏移衍射光栅（28）；相位分析器光栅（30）；以及X射线图像检测器（32）；其中，所述X射线发射装置（12）、所述相位偏移光栅（28）、所述相位分析器光栅（30）以及所述图像检测器（32）依此顺序沿着光轴（34）设置；其中，待检查的对象可容纳在所述X射线发射装置（12）与所述相位分析器光栅（30）之间，以使得所述对象的感兴趣区域可暴露于从所述X射线发射装置（12）朝向所述检测器（32）发射的X射线辐射；并且其中，所述光栅（28、30）之一和所述X射线发射装置（12）的组中的至少一个提供有相对于所述光轴（34）彼此相对设置的至少两个致动器（40）。