[发明专利]磁性材料溅射靶有效
| 申请号： | 201080056188.1 | 申请日： | 2010-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN102652184A | 公开（公告）日： | 2012-08-29 |
| 发明（设计）人： | 荒川笃俊 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C19/03;C22C19/07;C22C38/00;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种磁性材料溅射靶，通过熔炼、铸造法得到且含有B，其特征在于，B的含量为10原子%以上且50原子%以下，其余包含选自Co、Fe和Ni的一种以上元素。通过本发明的方法，得到气体成分杂质少，没有龟裂和破裂，主要成分元素的偏析少的溅射靶，结果，具有如下显著的效果：在用具备DC电源的磁控溅射装置进行溅射时，可以抑制粉粒的产生，提高薄膜制作时的成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性材料 溅射 | ||
【主权项】：
一种磁性材料溅射靶，通过熔炼、铸造法得到且含有B，其特征在于，B的含量为10原子%以上且50原子%以下，其余包含选自Co、Fe和Ni的一种以上元素，靶中的氧含量为100重量ppm以下，没有龟裂和破裂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吉坤日矿日石金属株式会社，未经吉坤日矿日石金属株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080056188.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：导电性基板及其制造方法以及触摸面板
- 下一篇：一种毽子的羽翎杆
- 同类专利
- 专利分类
