[发明专利]毫米波成像设备、毫米波成像系统和程序无效
申请号: | 201080056631.5 | 申请日: | 2010-12-15 |
公开(公告)号: | CN102713670A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 植村顺;武田政宗;山田康太;高桥顺一;长谷川毅;平井晴之;新仓广高;松崎智彦;佐藤弘康;泽谷邦男;水野皓司 | 申请(专利权)人: | 马斯普罗电工株式会社;国立大学法人东北大学 |
主分类号: | G01S13/89 | 分类号: | G01S13/89;G01V3/12 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;王艳春 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种毫米波成像设备,包括:透镜天线,其捕获从观察区域放射的毫米波并且形成物体图像;毫米波传感器组,每个输出对应于由透镜天线捕获的毫米波的信号电平的探测值;图像形成装置,其基于从毫米波传感器中的每一个输出的探测值生成物体图像;校正值设置装置,其设置对于各个毫米波传感器的校正值,所述校正值为由被指定为接收从放射体放射的毫米波的基准毫米波传感器探测的探测值与预定基准探测值之间的误差;以及探测值校正装置,在由图像形成装置实施的物体图像的形成之前,其通过由校正值设置装置设置的校正值校正由毫米波传感器中的每一个探测的探测值。 | ||
搜索关键词: | 毫米波 成像 设备 系统 程序 | ||
【主权项】:
一种毫米波成像设备,包括:透镜天线,对于观察区域,所述透镜天线捕获毫米波并且形成物体图像,所述毫米波从所述观察区域放射,所述观察区域是被指定为观察目标的区域,在所述观察区域的一部分中布置有放射被指定为基准的所述毫米波的放射体;毫米波传感器组,其由一个以上的毫米波传感器组成,所述一个以上的毫米波传感器被布置于所述透镜天线所捕获的所述毫米波形成所述物体图像的图像形成区域中,并且所述毫米波传感器中的每一个都输出对应于所接收的所述毫米波的信号电平的探测值;图像形成装置,其生成所述物体图像,所述物体图像基于从所述一个以上的毫米波传感器输出的每一个所述探测值,并且通过配置对应于所述探测值的成分的像素而形成;校正值设置装置,其设置对于所述各个毫米波传感器的校正值,所述校正值为所述一个以上的毫米波传感器中被指定为接收从所述放射体放射的所述毫米波的基准毫米波传感器所探测的探测值与预定的基准探测值之间的误差;以及探测值校正装置,在由所述图像形成装置实施的所述物体图像的形成之前,其通过所述校正值设置装置所设置的所述校正值校正由所述一个以上的毫米波传感器中的每一个探测的所述探测值。
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