[发明专利]用于制造包括透镜状阵列以及模糊像素轨迹的安全证件的方法和设备有效
| 申请号： | 201080057471.6 | 申请日： | 2010-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN102725674B | 公开（公告）日： | 2017-05-03 |
| 发明（设计）人： | J·范登博格 | 申请（专利权）人： | 摩尔福私人有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/06 | 分类号： | G02B27/06;G02B27/22;G02B3/00;B42D25/30;G03B35/24 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 蔡胜利 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制造显示装置、尤其安全证件的方法，包括以下步骤提供物体的m幅图像，其中，m至少等于2；将每幅图像划分成以间距δ隔开的图元的n组相邻的阵列(l1，1,l1，2…11，n),…,(lm1，lm2，…,lmn)；将所述图像以交错的方式施加在位于透镜结构下方呈交错阵列(ll1，l21…1m1),…,(l1n,l2n,…,lmn)的组的图像层上，其中所述透镜结构包括位于图像层上方的直线形透镜元件，一个直线形透镜元件重叠一个对应组的相邻阵列，其特征在于，在将各阵列施加到所述图像层上之后和/或在设置所述透镜元件之后，图元的每个阵列以非对焦的方式被设置到所述图像层上以形成模糊的阵列或者每个阵列由所述透镜元件成像以形成模糊的阵列，相邻的模糊的阵列的边缘的间距小于所述间距δ。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 包括 透镜状 阵列 以及 模糊 像素 轨迹 安全 证件 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种制造显示装置的方法，包括以下步骤：提供物体的m幅图像，其中，m至少等于2；将每幅图像划分成以间距δ隔开的图元的n组相邻的阵列(l1,1,l1,2…11,n),…,(lm1,lm2,…,lmn)；借助于印制或通过将光束投射或扫描而将所述图像以交错的方式施加在位于透镜结构下方呈交错阵列(ll1,l21…1m1),…,(l1n,l2n,…,lmn)的组的图像层上，每组包括与所述m幅图像对应的m个像素轨迹，其中所述透镜结构包括位于图像层上方的直线形透镜元件，一个直线形透镜元件上覆一个对应组的相邻阵列，其特征在于，在将各阵列施加到所述图像层上之后和/或在设置所述透镜元件之后，图元的每个阵列以非对焦的方式被设置到所述图像层上以形成模糊的阵列或者每个阵列由所述透镜元件成像以形成模糊的阵列，其中模糊的阵列中的像素轨迹强度不再是阶跃函数，而示出在距离0.5δ内是从最大强度值(Ih)逐渐减小至低值(I1)，其中相邻的模糊的阵列的边缘的间距小于所述间距δ，通过以非对焦方式实施所述阵列所造成的宽度增加是在5％与100％之间。
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