[发明专利]高纵横比的空心制品内部的化学气相沉积无效
申请号: | 201080057693.8 | 申请日: | 2010-12-20 |
公开(公告)号: | CN102712998A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | D·尤帕德雅亚;K·布安那帕利;W·J·伯德曼;M·马莫迪;T·B·卡瑟利;P·J·哈扎瑞卡;D·多安 | 申请(专利权)人: | 分之一技术公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 郭辉 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开一种用于对空心管状高纵横比工件内部区域进行等离子体强化化学气相沉积的方法和设备。多个阳极被轴向地定距相隔地排列安置于工件的内部区域。生成气体被引入此区域。将各独立的直流或脉冲直流偏压施加于每个阳极。偏压激发生产气体成为等离子体。工件以空心阴极排列被施以偏压。控制内部区域的压力以维持等离子体。狭长支承管安置着阳极,以及接受生产气体管道。电流分配器以各选定的比例分配供应电流至每个阳极。一个或多个凹槽扩散器或腔体扩散器可扩散生产气体或等离子体调节气。等离子体的阻抗与分布可用各种方式加以控制。 | ||
搜索关键词: | 纵横 空心 制品 内部 化学 沉积 | ||
【主权项】:
一种高纵横比空心管状工件内部区域等离子体强化化学气相沉积(CVD)方法,包括:沿着纵横比高于或等于约30:1的高纵横比空心管状工件的狭长内部区域的纵轴设置轴向地定距相隔地排列的多个阳极;将CVD生产气体引入工件的内部区域;将各自单独的直流或脉冲直流偏压施加于多个阳极的每一个,以激发生产气体成为等离子体;以及控制工件内部区域中的生产气体压力,以维持等离子体。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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