[发明专利]生产含氧化铟的层的方法,通过该方法生产的含氧化铟的层及其用途有效
申请号: | 201080057750.2 | 申请日: | 2010-11-25 |
公开(公告)号: | CN102652187A | 公开(公告)日: | 2012-08-29 |
发明(设计)人: | J.施泰格;D.V.范;H.蒂姆;A.默库洛夫;A.霍佩 | 申请(专利权)人: | 赢创德固赛有限公司 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 石克虎;林森 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种液相方法,用于由不含水溶液来生产包含氧化铟的层,在其中在无水气氛中,将含有至少一种通式InX(OR)2的铟卤素醇盐(这里R=烷基和/或烷氧基烷基和X=F,Cl,Br或者I)和至少一种溶剂或者分散介质的无水组合物进行步骤a)到d)的次序:a)施涂到基材上,b)将施涂到所述基材上的该组合物用波长≤360nm的电磁辐射进行照射,和c)任选地干燥,然后d)热转化成包含氧化铟的层,涉及通过该方法生产的层及其用途。 | ||
搜索关键词: | 生产 氧化 方法 通过 及其 用途 | ||
【主权项】:
液相方法,用于由不含水溶液来生产包含氧化铟的层,特征在于在无水气氛中,将含有至少一种通式InX(OR)2的铟卤素醇盐和至少一种溶剂或者分散介质的无水组合物进行步骤a)到d)的次序,通式InX(OR)2中R=烷基和/或烷氧基烷基且X=F,Cl,Br或者I:a) 施涂到基材上,b) 用波长≤360nm的电磁辐射照射施涂到该基材上的所述组合物,和c) 任选地干燥,和然后d) 热转化成包含氧化铟的层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
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