[发明专利]光掩模有效
申请号: | 201080057974.3 | 申请日: | 2010-12-13 |
公开(公告)号: | CN102667622A | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | 水村通伸;畑中诚 | 申请(专利权)人: | 株式会社V技术 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42;G03F7/20;G03F7/22;H01L21/027 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘文海 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种光掩模,具有:在透明基板(4)的下表面(4a)形成有规定形状的多个掩模图案(5)的掩模基板(2);在另一透明基板(9)的下表面(9a)形成有将多个掩模图案(5)的像缩小投影在被对置配置的被曝光体上的多个投影透镜(10),且在上表面(9b)以使光轴与投影透镜(10)的光轴一致的方式形成有将入射光聚光于投影透镜(10)的多个向场透镜(11)的微型透镜阵列(3),以使掩模图案(5)与向场透镜(11)具有规定间隙且处于接近对置的状态的方式来接合掩模基板(2)与微型透镜阵列(3)。由此,能够提高照射于被曝光体的光的利用效率。 | ||
搜索关键词: | 光掩模 | ||
【主权项】:
一种光掩模,其特征在于,具有:掩模基板,其在透明基板的一表面形成有规定形状的多个掩模图案;微型透镜阵列,其在另一透明基板的一表面形成有将所述多个掩模图案的像缩小投影在被对置配置的被曝光体上的多个投影透镜,并在另一透明基板的另一表面以使光轴与所述投影透镜的光轴一致的方式形成有将入射光聚光于所述投影透镜的多个向场透镜,以使所述掩模图案与所述向场透镜具有规定间隙且处于接近对置的状态的方式来接合所述掩模基板与所述微型透镜阵列。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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