[发明专利]光刻设备以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201080057980.9 | 申请日： | 2010-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN102695988A | 公开（公告）日： | 2012-09-26 |
| 发明（设计）人： | K·范隐真申诺;J·范斯库特;G·德维里斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在光刻设备中，使用包括多个可移动琢面以将辐射引导至光瞳琢面反射镜上的可选择位置的场反射镜设置照射模式。从一组预定照射模式选择基础照射模式并且可移动琢面被设置以实现该模式。为了调节成像参数，可移动琢面的一部分被设置到不同位置。确定哪些琢面设置到不同位置基于对将每个琢面设置到不同位置的效应的累加。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的照射系统，所述光刻设备布置成将图案从图案形成装置投影到衬底上，所述照射系统配置成调节辐射束并将辐射束引导至图案形成装置上，所述照射系统包括：第一反射部件和第二反射部件，第一反射部件布置成将辐射束的辐射引导至第二反射部件上，所述第一反射部件包括多个可移动反射元件，每一个可移动反射元件能够在至少第一位置和第二位置之间移动以改变照射模式，并且所述第二反射部件与图案形成装置的光瞳平面相关；和控制系统，布置成将所述多个可移动反射元件设置于各个期望位置以便实现从一组预定照射模式中选择出的期望的照射模式，并且进一步布置成将至少一个可移动反射元件设置于与其期望位置不同的校正位置以实现成像参数的调节。
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