[发明专利]用于制造电子构件的方法以及按照所述方法制造的电子构件有效

专利信息
申请号: 201080059283.7 申请日: 2010-12-21
公开(公告)号: CN102696104A 公开(公告)日: 2012-09-26
发明(设计)人: 冈特·琼森;赫尔曼·斯蒂格劳尔 申请(专利权)人: 联合单片半导体有限公司
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L23/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 车文;樊卫民
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 对于具有GaAs半导体衬底(HS)的电子构件,在该GaAs半导体衬底的正面上构造有半导体器件(BE),并且在该GaAs半导体衬底的背面设有多层的背面金属化部(RM),提出了背面金属化部的层序列的一种有利构造,尤其是背面金属化部具有Au层作为粘附层。
搜索关键词: 用于 制造 电子 构件 方法 以及 按照
【主权项】:
用于制造电子构件(EB)的方法,所述电子构件具有至少一个在GaAs衬底(HS)的正面上的半导体器件(BE),其中,所述衬底的背向所述器件的背面设有背面金属化部(RM),其中,将粘附层施加到衬底材料的表面上,并且之后沉积有Au传导层(4),所述Au传导层(4)的厚度为所述背面金属化部总厚度的至少50%,其特征在于,将第一Au层(1)作为粘附层来沉积。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于联合单片半导体有限公司,未经联合单片半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080059283.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top