[发明专利]照射系统、光刻设备以及照射方法

摘要

一种照射系统，包括配置成调节入射到场多小面反射镜装置上的辐射束的光瞳反射镜和场多小面反射镜装置。场多小面反射镜装置包括多个反射型场小面，其能够在相对于入射束的第一取向和第二取向之间移动。在其第一取向的场小面有效地将入射辐射反射朝向相应的反射光瞳小面，以便形成从光瞳多小面反射镜装置反射的调节束的部分。在其第二取向的场小面有效地将入射辐射反射到光瞳多小面反射镜装置的设置为束流收集区域的相应区域。该区域布置用以阻止入射到该区域的辐射形成调节束的部分，并布置在光瞳多小面反射镜装置上的有效地限定从光瞳多小面反射镜装置反射的调节束的内部和外部区域的环形区域的界限之间。

主权项

一种用在光刻设备中的照射系统，所述光刻设备布置成通过使用投影系统将图案形成装置的图案投影到衬底上，所述照射系统包括：场多小面反射镜装置；和光瞳多小面反射镜装置，所述场多小面反射镜装置包括多个反射型场小面，每个场小面能够在第一取向和辅助取向之间切换，在第一取向，通过场小面的入射极紫外辐射束部被引导至光瞳多小面反射镜装置并从光瞳多小面反射镜装置被引导至图案形成装置，和在辅助取向，所述束部被引导到光瞳多小面反射镜装置的区域上，所述光瞳多小面反射镜装置的所述区域设置在对应于光刻设备的投影系统的数值孔径的径向范围内，且所述光瞳多小面反射镜装置的所述区域布置作为有效地收集入射辐射并避免辐射到达图案形成装置的束流收集区域。