[发明专利]液浸构件、曝光装置、曝光方法及元件制造方法有效

专利信息
申请号: 201080060647.3 申请日: 2010-12-28
公开(公告)号: CN102714141A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 柴崎祐一 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;G03F7/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李今子
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 液浸构件以曝光用光的光路由液体填满的方式在和可移动的物体之间形成液浸空间。液浸构件包含:第1板,其配置于光路周围的至少一部分;第2板,其配置于光路周围的至少一部分,包含和第1板的下表面的至少一部分对向的上表面及物体能够对向的下表面;及回收口,其相对于光路配置在第1板的外侧,物体能够和至少一部分对向,回收来自第2板的上表面所面对的第1空间及第2板的下表面所面对的第2空间的液体的至少一部分。
搜索关键词: 构件 曝光 装置 方法 元件 制造
【主权项】:
一种液浸构件,其以曝光用光的光路由液体填满的方式在和可移动的物体之间形成液浸空间;且包含:第1板,其配置在所述光路周围的至少一部分;第2板,其配置在所述光路周围的至少一部分,且包含和所述第1板的下表面的至少一部分对向的上表面及所述物体可对向的下表面;及回收口,其相对于所述光路配置在所述第1板的外侧,所述物体能够和至少一部分对向,回收来自所述第2板的上表面所面对的第1空间及所述第2板的下表面所面对的第2空间的液体的至少一部分。
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