[发明专利]用于借助微波生成等离子体的装置有效

专利信息
申请号: 201080061090.5 申请日: 2010-11-05
公开(公告)号: CN103003913A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: H.米格;K-M.鲍姆格特纳;M.凯泽;L.阿尔贝茨 申请(专利权)人: 米格有限责任公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 臧永杰;李家麟
地址: 德国赖谢*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 用于借助微波生成等离子体用来对衬底进行CVD涂层的装置(1)具有反应气体可被输送到的真空箱(2)和布置在其中的电导体(3),所述电导体在其两个端部处分别与用于耦合输入微波的装置(6)以及与电压源(7)相连接,用该电压源(7)可在电导体(3)和周围的真空箱(2)之间生成电位差,其中,电导体(3)相对于用于耦合输入微波的装置(6)是电绝缘的。电导体(3)具有棒状的造型或弯曲的走向。电导体(3)经由穿通滤波器与电压源(7)相连接。用于耦合输入微波的装置(6)朝向电导体(3)漏斗状地展开,并且部分地或完全地用介电材料(11)充填。用于耦合输入微波的装置(6)具有沿着周边伸展的槽形的凹口。
搜索关键词: 用于 借助 微波 生成 等离子体 装置
【主权项】:
用于借助微波生成等离子体用来对衬底进行CVD涂层的装置,具有反应气体可被输送到的真空箱(2)和具有布置在其中的、与用于耦合输入微波的装置(6)相连接的电导体(3),其特征在于,电导体(3)在其两个端部处分别与用于耦合输入微波的装置(6)相连接,电导体(3)与电压源(7)相连接,用所述电压源(7)可以在电导体(3)和周围的真空箱(2)之间生成电位差,并且电导体(3)相对于用于耦合输入微波的装置(6)电绝缘或脱耦。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于米格有限责任公司,未经米格有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080061090.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top