[发明专利]用于介电阻挡地进行等离子体处理的电极装置和用于对表面进行等离子体处理的方法有效
| 申请号： | 201080062216.0 | 申请日： | 2010-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102711909A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | D·万德克;M·则格尔;L·特鲁特威格 | 申请（专利权）人： | 奇诺格有限责任公司 |
| 主分类号： | A61N1/40 | 分类号： | A61N1/40;A61N1/44;H05H1/24 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 曾立 |
| 地址： | 德国杜*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于对导电体的用作反电极的、不规则地三维成形的表面介电阻挡地进行等离子体处理的电极装置，其具有面状的电极(1)和电介质(2，3)，所述电介质被构造用于相对于待处理的表面以确定的间距布置以形成冷等离子体，其中，所述电极装置能够以简单的方式制造并且在应用方面通过以下方式可靠地构成，即，所述电介质(2，3)通过柔性的面状材料构成，所述材料在其向着待处理表面的侧上设有一结构(4)，以便当所述电介质(2，3)敷设在待处理的表面上时形成空气引导区域(7)；所述面状的电极(1)柔性地构成并且这样地固定在所述所述电介质(2，3)上，使得所述电介质(2，3)的层(2)将所述电极(1)与待处理的表面隔离。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 阻挡 进行 等离子体 处理 电极 装置 表面 方法 | ||
【主权项】：
用于对导电体的用作反电极且不规则地三维成形的表面介电阻挡地进行等离子体处理的电极装置，其具有面状的电极(1)和电介质(2，3)，所述电介质被构造用于相对于待处理的表面以确定的间距布置以形成冷等离子体，其特征在于，所述电介质(2，3)通过柔性的面状材料构成，所述材料在其向着待处理表面的侧上设有一结构(4)，以便当所述电介质(2，3)敷设在待处理的表面上时形成空气引导区域(7)；所述面状的电极(1)柔性地构成并且这样地固定在所述所述电介质(2，3)上，使得所述电介质(2，3)的层(2)将所述电极(1)与待处理的表面隔离。
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