[发明专利]碳化钽被覆碳材料及其制造方法有效
| 申请号： | 201080064887.0 | 申请日： | 2010-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN102770582A | 公开（公告）日： | 2012-11-07 |
| 发明（设计）人： | 近藤美华 | 申请（专利权）人： | 东洋炭素株式会社 |
| 主分类号： | C23C16/32 | 分类号： | C23C16/32;C30B29/36;H01L21/205 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 蔡晓菡;万雪松 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在碳基材41的表面形成有被覆碳基材41的碳化钽被覆膜42。碳化钽被覆膜42，在由X射线衍射得到的与碳化钽对应的衍射峰的(311)面的取向角度中在80°以上具有最大的峰值。 | ||
| 搜索关键词： | 碳化 被覆 材料 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
碳化钽被覆碳材料，其特征在于，具有碳基材、和在所述碳基材上被覆的碳化钽被覆膜，所述碳化钽被覆膜在由X射线衍射得到的与碳化钽对应的衍射峰的(311)面的取向角度中在80°以上具有最大的峰值。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
