[发明专利]集成传感器系统无效
| 申请号： | 201080065060.1 | 申请日： | 2010-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN102782585A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | G.德波尔;J.J.J.范巴尔;K.P.帕德耶;R.莫赛尔;N.弗吉尔;S.W.H.K.斯廷布林克 | 申请（专利权）人： | 迈普尔平版印刷IP有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G01B7/02;G01D5/24;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 李国华;沙捷 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于光刻机器的集成传感器系统，该系统包括用于将一个或多个曝光射束聚焦至靶材上的投射透镜系统(132)、用于承载靶材(9)的可移动平台(134)、用于进行有关投射透镜系统的最后聚焦组件(104)和靶材(9)的表面间的距离的测量的电容式感测系统(300)、以及控制单元(400)。该控制单元(400)用于至少部分地依据来自电容式感测系统的信号控制可移动平台(134)的移动而调整靶材(9)的位置。该电容式感测系统(300)包括多个电容式传感器(30)，每一个电容式传感器(30)均包括薄膜结构。该电容式传感器和投射透镜系统的最后聚焦组件(104)直接安装至共同基座(112)，且该传感器被放置于极为接近投射透镜系统的最后聚焦组件的边缘处。 | ||
| 搜索关键词： | 集成 传感器 系统 | ||
【主权项】：
一种用于光刻机器的集成传感器系统，该系统包括：投射透镜系统(132)，用于将一个或多个曝光射束聚焦到靶材上；可移动平台(134)，用于承载所述靶材(9)；电容式感测系统(300)，用于进行有关所述投射透镜系统的最后聚焦组件(104)与所述靶材(9)的表面间的距离的测量；以及控制单元(400)，用于至少部分地依据来自所述电容式感测系统的信号控制所述可移动平台(134)的移动，以调整所述靶材(9)的位置，其中所述电容式感测系统(300)包括多个电容式传感器(30)，该多个电容式传感器(30)各自包括薄膜结构，其中所述电容式传感器和所述投射透镜系统的所述最后聚焦组件(104)直接安装至共同基座(112)，且其中所述传感器置放于极其接近所述投射透镜系统的所述最后聚焦组件的边缘处。
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