[发明专利]膜堆叠体及其方法无效
| 申请号： | 201080066321.1 | 申请日： | 2010-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN102834260A | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | V.马蒂;G.库克 | 申请（专利权）人： | 惠普发展公司;有限责任合伙企业 |
| 主分类号： | B32B27/08 | 分类号： | B32B27/08;H01B5/14 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 段俊峰;卢江 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种在膜堆叠体中制造多个间隔物的方法包括在基板上形成具有侧壁的至少一个导电元件，邻近于基板沉积多个钝化层，和在该多个钝化层之一上执行蚀刻以基本在该至少一个导电元件的侧壁的对面形成多个间隔物。 | ||
| 搜索关键词： | 堆叠 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种在膜堆叠体中制造多个间隔物的方法，包括：在基板上形成具有侧壁的至少一个导电元件；邻近于所述基板沉积多个钝化层；和在所述多个钝化层之一上执行蚀刻以基本在所述至少一个导电元件的所述侧壁的对面形成多个间隔物。
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