[发明专利]成像光学系统以及具有该类型成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备有效
| 申请号： | 201080068347.X | 申请日： | 2010-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN103038690A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | H-J.曼;A.埃普尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B17/06 | 分类号： | G02B17/06;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种成像光学系统(7)，其具有将物平面(5)中的物场(4)成像于像平面(9)中的像场(8)中的多个反射镜(M1至M8)。该成像光学系统(7)具有光瞳遮拦。在物场(4)和像场(8)之间的成像光(3)的光路中的最后一个反射镜(M8)具有用于成像光(3)通过的通孔(18)。该成像光学系统(7)的、在物场(4)和像场(8)之间的成像光(3)的光路中的倒数第二个反射镜(M7)没有用于成像光(3)通过的通孔。该成像光学系统(7)正好具有八个反射镜(M1至M8)。结果是形成一种成像光学系统，利用该成像光学系统，可实现小成像误差、易管理的生产及对于成像光的良好通量的可操纵组合。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 以及 具有 类型 用于 微光 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
一种成像光学系统(7)，其具有多个反射镜(M1至M8)，该多个反射镜将物平面(5)中的物场(4)成像于像平面(9)中的像场(8)中，在所述物场(4)和所述像场(8)之间的成像光(3)的光路中的最后一个反射镜(M8)具有用于所述成像光(3)通过的通孔(18)，其特征在于：‑所述成像光学系统(7)的、在所述物场(4)和所述像场(8)之间的所述成像光(3)的光路中的倒数第二个反射镜(M7)布置在所述像场(8)前方的成像光束(22)的外侧；‑所述倒数第二个反射镜(M7)的、在所述倒数第二个反射镜(M7)的光学使用区域中的反射面没有用于所述成像光(3)通过的通孔；‑其中所述成像光学系统(7)的所述多个反射镜(M1至M8)正好包含八个反射镜。
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