[发明专利]用于多孔径成像的闪光系统有效
申请号: | 201080068706.1 | 申请日: | 2010-07-16 |
公开(公告)号: | CN103250405A | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | A·A·瓦杰斯 | 申请(专利权)人: | 双光圈股份有限公司 |
主分类号: | H04N5/225 | 分类号: | H04N5/225;H04N5/235 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 蒋世迅 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 用于多孔径成像的闪光系统。一种用于形成情景的像的方法和系统被提供。该方法包含通过使用一个孔径把像传感器对来自EM频谱的一部分的辐射曝光,并且使用有与该第一孔径不同大小的另一个孔径,对来自EM频谱的另一部分的辐射曝光,捕获该情景的像。与捕获该像的同时,该情景被用来自EM频谱的第二部分的辐射照明。然后,在由来自EM频谱的第一部分的辐射产生的像数据和由来自EM频谱的第二部分的辐射产生的像数据的基础上,形成该像。 | ||
搜索关键词: | 用于 多孔 成像 闪光 系统 | ||
【主权项】:
形成情景的像的方法,该方法包含步骤:‑通过使用至少第一孔径把像传感器对来自电磁波(EM)频谱的第一部分的辐射曝光,并使用有与第一孔径不同大小的至少第二孔径,对来自EM频谱的第二部分的辐射曝光,捕获该情景的第一像;‑在由来自EM频谱的第一部分的辐射产生的第一像的像数据基础上,并且在由来自EM频谱的第二部分的辐射产生的第一像的像数据基础上,形成该情景的像。‑其中,与捕获该第一像同时,该情景被来自EM频谱的第二部分的辐射照明。
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