[发明专利]异硫氰酸酯化合物的制造方法有效
申请号: | 201080070149.7 | 申请日: | 2010-11-29 |
公开(公告)号: | CN103221389A | 公开(公告)日: | 2013-07-24 |
发明(设计)人: | 高田纯子;岩本俊介;中野智 | 申请(专利权)人: | 日产化学工业株式会社 |
主分类号: | C07C331/20 | 分类号: | C07C331/20;C07C331/24;C07C331/28;C07C331/30 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡烨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供通过具有羧基的氨基化合物与硫代羰基二咪唑和碱的反应以一步工序高纯度地制造对应的具有羧基的异硫氰酸酯化合物的新制造方法。通过使具有羧基的氨基化合物在溶剂中于碱的存在下与硫代羰基二咪唑反应,获得具有羧基的异硫氰酸酯化合物。 | ||
搜索关键词: | 氰酸 酯化 制造 方法 | ||
【主权项】:
以式(2)[化2](SCN)m‑A‑B‑(CO2H)n (2)表示的具有羧基的异硫氰酸酯化合物的制造方法,其特征在于,使以式(1)[化1](H2N)m‑A‑B‑(CO2H)n (l)表示的具有羧基的氨基化合物与硫代羰基二咪唑在溶剂中于碱的存在下反应;式(1)中,m和n分别独立地表示1或2的整数,A为C6‑14芳香族烃基或C1‑12饱和烃基,该C6‑14芳香族烃基和C1‑12饱和烃基无取代或者被卤素原子、硝基、氰基、C1‑6烷基、羟基、被保护的羟基、C1‑6烷氧基、二C1‑6烷基氨基、被保护的氨基、被保护的单C1‑6烷基氨基、C1‑6烷基羰基或C1‑6烷氧基羰基取代,且该C1‑12饱和烃基中的亚甲基可被氧原子、被C1‑6烷基取代的氮原子或被保护的氮原子取代,B为单键、C6‑14芳香族烃基或C1‑12饱和烃基,该C6‑14芳香族烃基和C1‑12饱和烃基无取代或者被卤素原子、硝基、氰基、C1‑6烷基、羟基、被保护的羟基、C1‑6烷氧基、二C1‑6烷基氨基、被保护的氨基、被保护的单C1‑6烷基氨基、C1‑6烷基羰基或C1‑6烷氧基羰基取代,且该C1‑12饱和烃基中的亚甲基可被氧原子、被C1‑6烷基取代的氮原子或被保护的氮原子取代;式(2)中,m、n、A和B分别与式(1)中的定义相同。
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