[发明专利]一种相息图合成优化方法有效

专利信息
申请号: 201110000208.X 申请日: 2011-01-04
公开(公告)号: CN102074002A 公开(公告)日: 2011-05-25
发明(设计)人: 杨光临;郑瑞峰 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: G06T5/50 分类号: G06T5/50;G06N3/12
代理公司: 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 代理人: 贾晓玲
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种相息图合成优化方法,该方法基于遗传算法。本发明提供的技术方案为:给原始图像加上一组随机相位掩膜;优化该掩膜;当达到优化条件时,具有最小代价函数的相位掩膜为最佳的掩膜,其对应的相息图即为所求的相息图。本发明通过优化掩膜的方法达到间接优化相息图的目的。本方法通过直接优化该随机相位掩膜,降低再现像的误差,从而达到优化相息图的目的。在遗传算法的选择环节,采用精英保留方法,其能够保留种群优秀解,能够加快收敛速度,且易于实现。和传统优化方法相比本发明提供的方法具有初始代价函数小,优化速度快,优化效果好等优点。
搜索关键词: 一种 相息图 合成 优化 方法
【主权项】:
一种相息图合成优化方法,该方法基于遗传算法,其特征在于,给原始图像加上一组随机相位掩膜;优化该掩膜;当达到优化条件时,具有最小代价函数的相位掩膜为最佳的掩膜,其对应的相息图即为所求的相息图。
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