[发明专利]表面发射激光器元件、阵列、光学扫描装置和成像设备无效
| 申请号： | 201110003470.X | 申请日： | 2011-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN102122793A | 公开（公告）日： | 2011-07-13 |
| 发明（设计）人： | 轴谷直人;原坂和宏;菅原悟;佐藤俊一 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | H01S5/18 | 分类号： | H01S5/18;H01S5/42;G02B26/10;G03G15/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王冉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种表面发射激光器元件、表面发射激光器阵列、光学扫描装置和成像设备。所述表面发射激光器元件包括发射激光束的发射区域和高反射率区域，该高反射率区域包括具有第一折射率的第一电介质膜和具有不同于第一折射率的第二折射率的第二电介质膜，所述第一电介质膜和第二电介质膜叠置在所述发射区域内，以提供高反射率。在表面发射激光器元件中，所述高反射率区域形成在包括发射区域的中心部分的区域内，并且被构造成在平行于发射区域的平面内的两个正交方向上具有形状各向异性。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 发射 激光器 元件 阵列 光学 扫描 装置 成像 设备 | ||
【主权项】：
一种表面发射激光器元件，包括：发射区域，该发射区域被构造成发射激光束；以及高反射率区域，该高反射率区域包括具有第一折射率的第一电介质膜和具有不同于第一折射率的第二折射率的第二电介质膜，所述第一电介质膜和第二电介质膜叠置在所述发射区域内，以提供高反射率；其中，所述高反射率区域形成在包括发射区域的中心部分的区域内，并且被构造成在平行于发射区域的平面内的两个正交方向上具有形状各向异性。
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