[发明专利]一种疏水性分离膜以及制备方法无效
| 申请号： | 201110004845.4 | 申请日： | 2011-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN102649028A | 公开（公告）日： | 2012-08-29 |
| 发明（设计）人： | 吕晓龙 | 申请（专利权）人： | 天津工业大学;吕晓龙 |
| 主分类号： | B01D69/02 | 分类号： | B01D69/02;B01D67/00;B01D61/36 |
| 代理公司： | 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 | 代理人： | 郑永康 |
| 地址： | 300160*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种疏水性分离膜，其具有自脱水效应，该疏水性多孔分离膜是在亲水性超滤/微滤基膜或疏水性大孔微滤膜基膜表面涂覆一层厚度为100nm～20μm的疏水性涂层材料，形成疏水性表层；该疏水性多孔分离膜孔径范围为0.01～2μm，基膜厚度为20～800μm，疏水性表面与水的接触角为100～179°。优选在基膜表面涂敷的疏水性表层的厚度为150nm～2μm。该疏水性分离膜的制备方法以及使用该疏水性分离膜的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 疏水 分离 以及 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种疏水性分离膜，其特征在于：该疏水性多孔分离膜是在亲水性超滤/微滤基膜或疏水性大孔微滤膜基膜表面涂覆一层厚度为100nm～20μm的疏水性涂层材料，形成疏水性表层；该疏水性多孔分离膜孔径范围为0.01～2μm，基膜厚度为20～800μm，疏水性表面与水的接触角为100～179°。
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