[发明专利]介质阻挡放电等离子体尾缘射流装置及方法无效
| 申请号： | 201110005403.1 | 申请日： | 2011-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN102595758A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 李纲 | 申请（专利权）人： | 中国科学院工程热物理研究所 |
| 主分类号： | H05H1/30 | 分类号： | H05H1/30;B64C25/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种介质阻挡放电等离子体尾缘射流装置及方法，涉及流动控制技术，该装置由多组等离子体激励器、绝缘介质和高压电源组成，用于改善圆柱绕流尾迹区流动，在圆柱背风面适当位置施加一定强度的等离子体激励，通过加速附面层内低速流体的运动，在圆柱尾缘死水区形成射流，可以添平尾迹低速区，进而达到改善尾迹区流场、减小尾迹损失和气动噪声的效果，可用于飞机起落架的减阻和降噪。本发明的介质阻挡放电等离子体尾缘射流装置，具有结构简单紧凑、反应迅速、能耗低等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 介质 阻挡 放电 等离子体 射流 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种介质阻挡放电等离子体尾缘射流的方法，其特征在于，包括步骤：a)在圆筒上布置多组等离子体激励器；b)将圆筒套于飞机起落架轮支柱上部外圆；c)激励器接通高压电后，将附近空气电离产生等离子体；d)所产生的等离子体加速附面层内低速气体的运动，添平圆筒绕流的尾迹区，进而达到减小尾迹损失、减小气动噪声的效果。
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