[发明专利]负性抗蚀剂组合物和形成图案的方法

摘要

负性抗蚀剂组合物，其包括包含具有烷基硫基基团重复单元且具有1000-2500的MW的基础聚合物，产酸剂和碱性组分，典型地为包含羧基、但不包括活性氢的胺化合物。其可以形成具有低LER值的45-nm线间隔的图案。

主权项

1.一种化学放大的负性抗蚀剂组合物，其包括(A)基础聚合物，(B)产酸剂，以及(C)作为碱性组分的含氮化合物，所述基础聚合物为(i)包含通式(1)和(2)的重复单元的聚合物：其中A和B各自为单键或可以用醚键隔开的C₁-C₁₀的亚烷基，R¹各自独立地为氢或甲基，R^x各自独立地为氢或C₁-C₆的烷基，X为氢、直链、支链或环状的C₁-C₂₀的烷基、C₂-C₂₀的烷氧基烷基、C₂-C₂₀的烷基硫基烷基、卤素、硝基、氰基、亚磺酰基或磺酰基，Y为C₁-C₂₀的烷基或C₂-C₂₀的酰基，a和c各自为0到4的整数，b为1到5的整数，d为0到5的整数，P和Q各自为0或1，s和t各自为0到2的整数，所述聚合物与能够在酸的存在下与式(1)通过亲电反应形成交联的交联剂结合，(ii)所述聚合物进一步包括能够在酸的存在下与式(1)通过亲电反应形成交联的重复单元，或者(iii)所述聚合物进一步包括具有交联功能的重复单元，其与能够在酸的存在下与式(1)通过亲电反应形成交联的交联剂结合，至少一部分所述基础聚合物具有通式(3)的烷基硫基：其中R³为直链、支链或环状的C₁-C₂₀的烷基、C₂-C₂₀的羟烷基、C₂-C₂₀的烷氧基烷基、C₁-C₂₀的巯烷基或C₂-C₂₀的烷基硫基烷基，所述基础聚合物具有1000到2500的重均分子量。