[发明专利]用于沉积装置的罐及使用罐的沉积装置无效
| 申请号： | 201110006623.6 | 申请日： | 2011-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN102312218A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 郑珉在;李基龙;洪钟元;罗兴烈;姜有珍;张锡洛;徐晋旭;梁泰勋;郑胤谟;苏炳洙;朴炳建;李东炫;李吉远;白原奉;朴钟力;崔宝京;伊凡·马伊达楚克;郑在琓 | 申请（专利权）人： | 三星移动显示器株式会社 |
| 主分类号： | C23C16/448 | 分类号： | C23C16/448;C23C16/455;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 罗正云;王琦 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于沉积装置的罐和使用罐的沉积装置，并且更为具体地，一种能够提供包含在供应到沉积室中的反应气体中的均匀量的原材料并且提高原材料供应的安全性的沉积装置的罐，以及使用罐的沉积装置。该沉积装置包括：沉积室；将反应气体供应到该沉积室的罐；以及用于将载气供应到罐的载气供应器，其中该罐包括主体、加热该主体的加热单元以及布置在该主体下方的温度测量单元。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 装置 使用 | ||
【主权项】：
一种用于沉积装置的罐，包括：原材料蒸发所处的主体；加热所述主体的加热单元；以及布置在所述主体下方的温度测量单元。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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