[发明专利]镀膜件及其制备方法无效
| 申请号： | 201110009229.8 | 申请日： | 2011-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN102586729A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;廖高宇;熊小庆 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种镀膜件，其包括基体、形成于基体表面的打底层、形成于打底层表面的氮氧化镍层及形成于氮氧化镍层表面的氮化硅层。本发明镀膜件膜系逐层过渡较好，膜层内部没有明显的应力产生；所述氮氧化镍层膜层致密，可有效延缓外界的氧气朝膜层内渗透；同时所述氮化硅层可有效避免所述氮氧化镍层的磨损刮擦；通过所述氮氧化镍层和氮化硅层的共同作用，可保护基体在高温时仍不被氧化，从而有效提高镀膜件的使用寿命。此外，本发明还提供一种上述镀膜件的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种镀膜件，其包括基体及形成于基体表面的打底层，其特征在于：该镀膜件还包括形成于打底层表面的氮氧化镍层及形成于氮氧化镍层表面的氮化硅层。
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