[发明专利]用于实现基于模型的扫描器调整方法有效
| 申请号： | 201110009511.6 | 申请日： | 2008-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN102063022A | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | 叶均;曹宇 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于实现基于模型的扫描器调整方法，所述方法采用参考光刻系统对第一光刻系统进行调整，所述参考光刻系统和第一光刻系统中的每个都具有用于控制成像性能的可调整参数。所述方法包括以下步骤：定义测试图案和成像模型；采用参考光刻系统对测试图案进行成像并测量成像结果；采用第一光刻系统对测试图案进行成像并测量成像结果；采用对应于参考光刻系统的成像结果对成像模型进行校准，其中经过校准的成像模型具有第一组参数值；采用对应于第一光刻系统的成像结果对经过校准的成像模型进行调整，其中经过调整的被校准的模型具有第二组参数值；以及基于第一组参数值和第二组参数值之差调整第一光刻系统的参数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 实现 基于 模型 扫描器 调整 方法 | ||
【主权项】：
一种用于采用成像模型调整光刻系统的方法，所述光刻系统和所述成像模型中的每个都具有用于控制成像性能的可调整参数，所述方法包括以下步骤：采用所述光刻系统对测试图案进行成像，并对成像结果进行测量，第一组参数值与所述测试图案相关联；采用所述成像结果对所述成像模型进行调整，所述经过调整的成像模型具有第二组参数值；基于所述第一组参数值和所述第二组参数值之间的差对所述光刻系统的所述可调整参数进行调整。
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