[发明专利]用于相变存储器的Si-Sb-Te基硫族化合物相变材料有效

专利信息
申请号: 201110021620.X 申请日: 2011-01-19
公开(公告)号: CN102610745A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 周夕淋;吴良才;宋志棠;饶峰;彭程;朱敏 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 李仪萍
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种用于相变存储器的Si-Sb-Te基硫族化合物相变材料,属微电子技术领域。该种材料具有高热稳定性和高结晶速度,其组分通式为(SiaSbbTec)1-yMy,其中元素M是氮元素或氧元素或它们的混合物;在SiaSbbTec中,Si的含量a为10-25%原子百分比,Sb和Te的含量的原子百分比的比值为1.7≤(b/c)≤2.0;掺杂元素M的含量y是0-25%原子百分比。该材料在电学脉冲的作用下,可在非晶态(高阻态)和晶态(低阻态)之间进行可逆转变,从而实现信息存储。该材料与传统的Ge2Sb2Te5相比,具有较高的结晶温度、较高的热稳定性和更高的晶态电阻率,使用该材料作为信息存储介质可以大大提高器件的数据保持能力,同时能保持较快的操作速度和降低的写操作功耗,提高器件的可靠性。
搜索关键词: 用于 相变 存储器 si sb te 基硫族 化合物 材料
【主权项】:
一种用于相变存储器的Si‑Sb‑Te基硫族化合物相变材料,其特征在于:其组分通式为(SiaSbbTec)1‑yMy,在SiaSbbTec中,Si的含量a为10‑25%原子百分比,Sb和Te的含量的原子百分比的比值为1.7≤(b/c)≤2.0;M为掺杂元素,其含量y是0‑25%原子百分比。
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