[发明专利]一种基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法

摘要

本发明涉及一种基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法，属于微电子技术领域。所述方法包括在成像器件阵列上设置一些参考单元，其余单元为成像单元，邻近位置安置参考单元以减小工艺、温度等因素引起的失配，使得成像单元和参考单元在擦除之后有几乎完全一致的初始阈值电压，再通过实验得出不同初始阈值电压和不同差分参量下各个实际光强的值。本发明基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法通过使用差分技术消除了由于成像器件擦除不均匀，擦除阈值电压产生偏差而导致图像失真的问题，提高成像质量，避免去刻意追求难以实现的统一化复位阈值。

主权项

一种基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：步骤10：建立在不同初始阈值电压和不同差分参量下反应成像器件各个实际光强值的矩阵表，所述成像器件包括由多个像素组成的成像器件阵列，所述每个像素包括参考单元和成像单元；步骤20：对成像器件中的参考单元和成像单元进行擦除得到两个相同的初始阈值电压，并用电学量f(Vt)表征参考单元的初始阈值电压；步骤30：对所述成像单元进行曝光编程操作得到编程后的阈值电压，并用电学量h(Vt)表征编程后的阈值电压，从而得到成像单元的差分参量g(h)= f(Vt)‑ h(Vt)； 步骤40：根据参考单元的电学量f(Vt)和成像单元的差分参量g(h)再通过查找矩阵表从而得到成像单元感受的实际光强值，并将该实际光强值作为参考单元由于其不参与曝光编程操作而造成实测丢失的光强值。