[发明专利]纳米减反薄膜或增透膜以及光学或光电器件的制备方法无效
| 申请号： | 201110024964.6 | 申请日： | 2011-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN102169195A | 公开（公告）日： | 2011-08-31 |
| 发明（设计）人： | 王荣新;邢政;张晓东;李晓伟;张宝顺;杨辉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种纳米减反薄膜或增透膜以及光学或光电器件的制备方法。该方法为：至少在光学或光电器件的采光窗口上采用透明纳米材料组装形成至少一层与采光窗口表面结构层具有大于0°夹角的纳米阵列结构的减反薄膜或增透膜。本发明通过采用纳米材料在器件表面进行自组装构成表面减反薄膜层或增透膜层，并利用光或电磁波在纳米结构层中的折射和反射的综合效应，达到了光或电磁波多次耦合进入器件结构层中减小光或电磁波损失的目的，增强光或电磁波进入器件的结构层，从而提高了器件对光或电磁波能量的吸收利用。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 薄膜 增透膜 以及 光学 光电 器件 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种纳米减反薄膜或增透膜的制备方法，其特征在于，该方法为：至少在光学或光电器件的采光窗口上采用透明纳米材料组装形成至少一层与采光窗口表面结构层具有大于0°夹角的纳米阵列结构的减反薄膜或增透膜。
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