[发明专利]光刻机进行工程光刻露光时的对准方法无效
| 申请号： | 201110025058.8 | 申请日： | 2011-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN102608879A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | 娄迪 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 孙大为 |
| 地址： | 201206 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻机进行工程光刻露光时的对准方法；包括以下步骤：在光刻机的载片台上安装摄像头，使其与载片台的先对位置固定；硅片被送上载片台，摄像头对其进行影像捕捉；计算出硅片和载片台之间的旋转量；升起安装在载片台中央带有真空吸附的顶针，通过其沿圆周方向的运动进行对硅片旋转量的补正；降下顶针，光刻机进行工作。本发明通过在光刻机的载片台加装一个摄像头，通过光学影像识别的方法计算硅片的旋转量；并通过载片台上的顶针的运动来进行补偿，从而减少第一层工程光刻露光时候的图形旋转误差。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 进行 工程 露光 对准 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻机进行工程光刻露光时的对准方法；其特征在于，包括以下步骤：在光刻机的载片台上安装摄像头，使其与载片台的先对位置固定；硅片被送上载片台，摄像头对其进行影像捕捉；计算出硅片和载片台之间的旋转量；升起安装在载片台中央带有真空吸附的顶针，通过其沿圆周方向的运动进行对硅片旋转量的补正；降下顶针，光刻机进行工作。
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