[发明专利]凹凸形状形成片及其制造方法、防反射体、相位差板、工序片原版以及光学元件的制造方法有效
| 申请号： | 201110027745.3 | 申请日： | 2007-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN102109623A | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | 冈安俊树 | 申请（专利权）人： | 王子制纸株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G02B1/00;G02B5/30;G03F1/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 齐葵;王诚华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种凹凸形状形成片，该凹凸形状形成片作为防反射体、相位差板等光学元件利用时表现优异的性能。本发明的凹凸形状形成片(10)，包括树脂层(11)和设置在树脂层(11)的至少一部分的硬质层(12)；硬质层(12)由金属或者金属化合物组成，硬质层(12)具有波状的凹凸形状(12a)，凹凸形状(12a)的平均间距为1μm以下，凹凸形状(12a)的底部的平均深度为将所述平均间距当作100％时的10％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 凹凸 形状 形成 及其 制造 方法 反射 相位差 工序 原版 以及 光学 元件 | ||
【主权项】：
一种凹凸形状形成片，包括树脂层和设置在该树脂层外面的至少一部分的10nm以下的硬质层，在该硬质层形成波状的凹凸形状，其特征在于，硬质层由金属或者金属化合物组成；凹凸形状的平均间距为1μm以下，凹凸形状的底部的平均深度为将所述平均间距当作100％时的10％以上。
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