[发明专利]薄膜沉积设备有效
申请号: | 201110029291.3 | 申请日: | 2011-01-11 |
公开(公告)号: | CN102127748A | 公开(公告)日: | 2011-07-20 |
发明(设计)人: | 朴铉淑;曹昌睦;康熙哲;李润美;成沄澈;崔镕燮;金钟宪;柳在光 | 申请(专利权)人: | 三星移动显示器株式会社 |
主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04;C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩明星;李娜娜 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了一种薄膜沉积设备,所述薄膜沉积设备可被简单应用于大规模生产大尺寸显示装置并提高生产率。薄膜沉积设备包括:沉积源,排出沉积材料;沉积源喷嘴单元,设置在沉积源的一侧并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴;图案化缝隙片,被设置成与所述沉积源喷嘴单元相对,所述图案化缝隙片包括沿与第一方向垂直的第二方向布置的多个图案化缝隙。在基底或者薄膜沉积设备沿第一方向彼此相对移动的同时执行沉积,沉积源、沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片彼此一体地形成。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种用于在基底上形成薄膜的薄膜沉积设备,所述薄膜沉积设备包括:沉积源,排出沉积材料;沉积源喷嘴单元,设置在沉积源的一侧并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴;图案化缝隙片,被设置成与所述沉积源喷嘴单元相对,所述图案化缝隙片包括布置在沿与第一方向垂直的第二方向的行中的多个图案化缝隙,其中,在基底和薄膜沉积设备中的一个相对于基底和薄膜沉积设备中的另一个沿第一方向移动的同时执行沉积,沉积源、沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片一体地形成。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的