[发明专利]含有表面活性剂的处理溶液

摘要

将含有一种或多种表面活性剂的处理溶液用于减少半导体器件制造过程中的缺陷数量。在某些实施方案中，当该处理溶液在图案化的光致显影剂层的显影过程中或之后用作冲洗液时，其可减少显影后的缺陷，例如图案损坏或线宽粗糙度。还公开了一种使用本发明的处理溶液，使涂覆了光致抗蚀剂的多个基底上的缺陷数量减少的方法，该缺陷例如为图案损坏和/或线宽粗糙度。

主权项

1.一种避免多个基底表面上的显影图案被损坏的方法，该方法包括：提供一个第一基底，其包括显影于其表面上的光致抗蚀剂图案；制备处理溶液，其包括10ppm-约10,000的至少一种式(Ⅸa)、(Ⅸb)、(Ⅸc)、(Ⅹa)、(Ⅹb)、(Ⅹc)或(Ⅹd)所示的表面活性剂；其中，R、R₁、R₄和R₁₂各自独立地为具有3-25个碳原子的直链、支链或环状烷基；R₂为氢原子，或具有1-5个碳原子的直链、支链或环状烷基；i、m和n各自独立地为0-20的数；使第一基底与处理溶液接触；确定第一基底上的处理溶液的表面张力和接触角；用接触角的余弦值乘以表面张力以得到处理溶液的附着张力值；提供多个基底，其中该多个基底中的每个基底都包括显影于其表面上的光致抗蚀剂图案；和如果处理溶液的附着张力值为30或更低，则使该多个基底与处理溶液接触。