[发明专利]一种纳米制造系统无效
| 申请号： | 201110030665.3 | 申请日： | 2011-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN102101642A | 公开（公告）日： | 2011-06-22 |
| 发明（设计）人： | 刘泽文;尹明;司卫华;秦健 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人： | 贾玉健 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种纳米制造系统，包括原子粒子产生系统，原子粒子产生系统与气源连通，原子粒子产生系统与原子输运系统相连，原子输运系统与真空工作室相连，真空工作室内设置有纳米孔阵列掩模板，纳米孔阵列掩模板边缘上方为光学对准系统，下方为纳米级电子对准系统，纳米孔阵列掩模板下方设置有铺设有衬底材料；气源进入原子粒子产生系统获得能量与动量后产生原子粒子，原子粒子进入真空工作室，支架调节控制系统实现纳米孔阵列掩模板与衬底材料的相对运动，实现掩模功能与纳米图形加工；本发明具有控制精度高、加工尺度小、对衬底材料损伤小、电学影响小、系统结构相对简单、功能材料多样以及结构图形化方便的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 制造 系统 | ||
【主权项】：
一种纳米制造系统，其特征在于，包括原子粒子产生系统(3)，原子粒子产生系统(3)通过阀门(2)与气源(1)连通，原子粒子产生系统(3)与原子输运系统(4)相连通，原子输运系统(4)与真空工作室(7)相连通，真空工作室(7)内设置有放置纳米孔阵列掩模板(16)的升降及二维图形扫描支架(15)，纳米孔阵列掩模板(16)边缘上方为光学对准系统(8)，纳米孔阵列掩模板(16)下方为纳米级电子对准系统(17)，纳米孔阵列掩模板(16)下方还设置有用于铺设衬底材料(14)的衬底多维调整支架(9)。
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