[发明专利]半导体器件和形成垂直互连的薄外形WLCSP的方法有效
申请号: | 201110031135.0 | 申请日: | 2011-01-28 |
公开(公告)号: | CN102157391A | 公开(公告)日: | 2011-08-17 |
发明(设计)人: | 池熺朝;赵南柱;申韩吉 | 申请(专利权)人: | 新科金朋有限公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/768;H01L25/00;H01L23/52;H01L23/528 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 代易宁 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 新加坡;SG |
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摘要: | 半导体晶圆具有多个第一半导体小片。第二半导体小片安装在第一半导体小片上。第一半导体小片的活性表面定向成朝向第二半导体小片的活性表面。密封剂沉积在第一半导体小片和第二半导体小片上。第二半导体小片的与活性表面相对的背面的一部分被移除。导电柱绕第二半导体小片形成。TSV可形成为穿过第一半导体小片。互连结构形成在第二半导体小片的背面、密封剂和导电柱上。互连结构与导电柱电连接。第一半导体小片的与活性表面相对的背面的一部分被移除。热沉或屏蔽层可形成在第一半导体小片的背面上。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 形成 垂直 互连 外形 wlcsp 方法 | ||
【主权项】:
一种制造半导体器件的方法,包括:提供具有多个第一半导体小片的半导体晶圆,所述第一半导体小片均具有活性表面;将第二半导体小片安装到所述第一半导体小片上,所述第一半导体小片的所述活性表面定向成朝向所述第二半导体小片的活性表面;将密封剂沉积在所述第一半导体小片和所述第二半导体小片上;移除所述第二半导体小片的与所述活性表面相对的背面的一部分;绕所述第二半导体小片形成导电柱;在所述第二半导体小片的所述背面、密封剂和导电柱上形成互连结构,所述互连结构与所述导电柱电连接;移除所述第一半导体小片的与所述活性表面相对的背面的一部分;和将所述半导体晶圆分割为单独的半导体器件。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造