[发明专利]光刻用洗涤液以及配线形成方法有效
申请号: | 201110033927.1 | 申请日: | 2011-01-31 |
公开(公告)号: | CN102169296A | 公开(公告)日: | 2011-08-31 |
发明(设计)人: | 大桥卓矢;高滨昌;江藤崇弘;森大二郎;横井滋 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42;C11D7/32;C11D7/50;C11D7/60;C11D7/26;H01L21/3213 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;倪小敏 |
地址: | 日本神奈川县川*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种光刻用洗涤液、以及一种使用该光刻用洗涤液的配线形成方法,该光刻用洗涤液对ILD材料的防腐效果优异,并且对光刻胶膜以及下层防反射膜的除去性能优异。本发明的光刻用洗涤液含有季铵氢氧化物、水溶性有机溶剂、水、和无机碱。水溶性有机溶剂含有偶极矩为3.0D以上的高极性溶剂、乙二醇醚类溶剂、和多元醇,相对于总量,上述高极性溶剂和乙二醇醚类溶剂的总含量为30质量%以上。 | ||
搜索关键词: | 光刻 洗涤液 以及 线形 成方 | ||
【主权项】:
一种光刻用洗涤液,其含有季铵氢氧化物、水溶性有机溶剂、水、和无机碱;所述水溶性有机溶剂含有偶极矩为3.0D以上的高极性溶剂、乙二醇醚类溶剂、和多元醇;相对于总量,所述高极性溶剂和所述乙二醇醚类溶剂的总含量为30质量%以上。
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