[发明专利]具有金属涂层结构的密封构造有效
申请号: | 201110035183.7 | 申请日: | 2011-02-01 |
公开(公告)号: | CN102192325A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 乔池密·瓦格纳;汉斯-乔治·哈尔特尔 | 申请(专利权)人: | 安捷伦科技有限公司 |
主分类号: | F16J15/06 | 分类号: | F16J15/06;G01N30/00;B01D15/10 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 李剑 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及具有金属涂层结构的密封构造,具体地涉及一种配置用于密封联接第一装置(200)的第一流体流路(220)与第二装置(210)的第二流体流路(230)的密封构造。所述密封构造包括接触表面(275,280;500),其包括配置用于在联接所述第一装置(200)与所述第二装置(210)时增大表面压力的结构(300,310;510)。所述接触表面(275,280;500)包括配置用于提高密封的金属涂层(400)。 | ||
搜索关键词: | 具有 金属 涂层 结构 密封 构造 | ||
【主权项】:
一种被配置来密封联接第一装置(200)的第一流体流路(220)与第二装置(210)的第二流体流路(230)的密封构造,所述密封构造包括:接触表面(275,280;500),其包括被配置来在联接所述第一装置(200)与所述第二装置(210)时增大表面压力的结构(300,310;510),其中,所述接触表面(275,280;500)包括被配置来提高密封的金属涂层(400)。
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