[发明专利]用于溅射腔室的工艺套件组件无效
| 申请号： | 201110036072.8 | 申请日： | 2006-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN102086509A | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | 艾伦·亚历山大·里奇;唐尼·扬;扬·理查德·洪;凯瑟琳·A·沙伊贝尔;乌梅什·凯尔卡 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于溅射腔室的工艺套件组件，该溅射腔室具有包括背板和溅射板的溅射靶材。背板具有凹槽。溅射板包含具有平面的柱状台面和围绕该柱状台面的环形倾斜边。在一个方案中，背板包含具有高热导率和低电阻率的材料。在另一方案中，背板包含具有单个凹槽或多个凹槽的背面。用于溅射腔室的工艺套件包含沉积环、覆盖环和护板组件，用于放置在溅射腔室中衬底支架附近。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 溅射 工艺 套件 组件 | ||
【主权项】：
一种设置在溅射腔室中衬底支架周围的沉积环，所述衬底支架包括具有平面的衬底承载表面和在所述衬底的悬伸边之前终止的外围侧壁，所述沉积环包括：(a)环形带，其具有围绕所述支架的所述外围壁的暴露表面，并且所述环形带包括：(i)沿所述环形带横向延伸的内唇缘，所述内唇缘基本上平行于所述支架的外围壁并在所述支架的所述悬伸边下面终止；(ii)凸起的脊，其基本上平行于所述衬底支架的所述承载表面的所述平面；(iii)在所述内唇缘和所述凸起的脊之间的内开口沟道，所述内开口沟道至少部分在所述衬底的所述悬伸边的下面延伸；以及(iv)所述凸起的脊的径向向外的壁架。
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