[发明专利]内连线结构及使用该结构的装置、线路结构与方法有效
申请号: | 201110036528.0 | 申请日: | 2011-01-31 |
公开(公告)号: | CN102612253A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 吴仕先 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | H05K1/02 | 分类号: | H05K1/02;H05K1/11;H05K9/00;H01L23/48;H01L21/768;H01L23/552 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 内连线结构及使用该结构的装置、线路结构与方法。本发明公开了一内连线(Interconnection)结构。该内连线结构置于实际上相互平行的一第一导电层与一第二导电层之间,其中所述导电层包括一信号线。该内连线结构包括一导电柱以及一遮蔽墙柱。该导电柱穿行于所述第一导电层与第二导电层之间,而导电柱连接第一导电层的信号线。遮蔽墙柱设置于第一导电层与第二导电层之间,该遮蔽墙柱围绕导电柱外围的局部区域,并且电性耦合到导电柱。该导电柱以及遮蔽墙柱为成对或成组式架构。该不同于导电柱形状的遮蔽墙柱,将依其特殊形状设计将使得该导电柱成为具备阻抗设计及控制能力的连线。 | ||
搜索关键词: | 连线 结构 使用 装置 线路 方法 | ||
【主权项】:
一种内连线结构,其特征在于,设置于第一导电层与第二导电层之间,其中该第一导电层与该第二导电相互平行,该第一导电层与该第二导电层分别包括一第一信号线与一第二信号线,该内连线结构包括:一导电柱,穿行于该第一导电层与第二导电层之间,该导电柱电性连接到该第一信号线与该第二信号线;以及一遮蔽墙柱,设置于该第一导电层与第二导电层之间,并电性连接到一参考导线,其中,该遮蔽墙围绕该导电柱位于该第一导电层与该第二导电层之间外围的局部区域,并且电性耦合到该导电柱。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110036528.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种合成三甲氧基二苯乙烯的方法
- 下一篇:一种合成氟氧钛酸铵粉体的方法