[发明专利]具有粘接到其上的涂覆膜的部分的光刻设备

摘要

本发明公开了一种具有粘接到其上的涂覆膜的部分的光刻设备，所述光刻设备在所述设备的至少一部分上具有携带有涂层的可去除的粘合膜。在实施例中，公开了一种液体供给系统，所述液体供给系统具有液体限制结构，所述液体限制结构沿着在投影系统和衬底支撑件之间的空隙的边界的至少一部分延伸，其中携带有涂层的膜位于所述液体限制结构的至少一部分上。

主权项

一种光刻设备，所述光刻设备包括：照射系统，所述照射系统配置用于调节辐射束；支撑件，所述支撑件配置用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；衬底支撑件，所述衬底支撑件配置用于保持衬底；投影系统，所述投影系统配置用于将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；以及可去除的粘合膜，所述粘合膜设置在所述设备的至少一部分上并携带有涂层；其中所述膜配置用于保护粘接有所述膜、以对抗来自投影系统的辐射施加的影响或者用在光刻设备中的液体施加的影响、或者两者的表面。