[发明专利]三族氮化合物半导体紫外光发光二极管有效
申请号: | 201110037662.2 | 申请日: | 2011-02-15 |
公开(公告)号: | CN102637793A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 凃博闵;黄世晟 | 申请(专利权)人: | 展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/12 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市宝*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种三族氮化合物半导体发光二极管,其包括蓝宝石衬底、依次成长在该蓝宝石衬底上的n型半导体层、有源层以及p型半导体层。所述n型半导体层与有源层之间还成长有一n型应变层晶格结构。所述n型应变层晶格结构的晶格常数大于等于所述有源层的晶格常数,小于等于所述n型半导体层的晶格常数。所述n型应变层晶格结构使所述n型半导体层与所述有源层之间达成渐变晶格匹配,可以消除n型半导体层从下面传递来的缺陷,及减缓晶格部匹配造成的能带倾斜,以提升量子阱发光强度。 | ||
搜索关键词: | 氮化 半导体 紫外光 发光二极管 | ||
【主权项】:
一种三族氮化合物半导体发光二极管,其包括蓝宝石衬底、依次成长在该蓝宝石衬底上的n型半导体层、有源层以及p型半导体层,其特征在于,所述n型半导体层与有源层之间还成长有一n型应变层晶格结构,所述n型应变层晶格结构的晶格常数大于等于所述有源层的晶格常数,小于等于所述n型半导体层的晶格常数。
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