[发明专利]防反射膜有效

专利信息
申请号: 201110038993.8 申请日: 2011-02-15
公开(公告)号: CN102162864A 公开(公告)日: 2011-08-24
发明(设计)人: 长谷川卓司;匹田真也 申请(专利权)人: 日油株式会社
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;C09D4/02;C09D4/06
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 张晶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种具有优异的防反射性能、防静电性能、耐热性及耐擦伤性的单层结构防反射膜。该防反射膜是在透明基膜上直接层叠低折射率层而构成。该低折射率层为低折射率层用涂布液的固化物,所述低折射率层用涂布液含有(a)多官能(甲基)丙烯酸酯、(b)中空二氧化硅微粒及(c)由π共轭导电性高分子与掺杂剂构成的复合物。低折射率层用涂布液,相对于每100质量份(a)多官能(甲基)丙烯酸酯,(b)中空二氧化硅微粒为40~250质量份及(c)复合物为1~25质量份;同时,所述(c)复合物中,π共轭导电性高分子与掺杂剂的质量比设定为1∶1~1∶5。
搜索关键词: 反射
【主权项】:
一种防反射膜,其是在透明基膜上直接层叠低折射率层而构成,其特征在于,所述低折射率层为低折射率层用涂布液的固化物,所述低折射率层用涂布液含有(a)多官能(甲基)丙烯酸酯、(b)中空二氧化硅微粒及(c)由π共轭导电性高分子与掺杂剂构成的复合物;相对于每100质量份(a)多官能(甲基)丙烯酸酯,(b)中空二氧化硅微粒为40~250质量份及(c)由π共轭导电性高分子与掺杂剂构成的复合物为1~25质量份;同时,(c)由π共轭导电性高分子与掺杂剂构成的复合物中,π共轭导电性高分子与掺杂剂的质量比设定为1∶1~1∶5。
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