[发明专利]光刻设备和器件制造方法

摘要

本发明公开了一种浸没式光刻设备以及一种器件制造方法。所述浸没式光刻设备包括流体限制系统，所述流体限制系统配置用于将流体限制到在投影系统和衬底之间的空隙。流体限制系统包括用于供给流体的流体入口，所述流体入口连接到入口端口和出口端口。所述浸没式光刻设备和包括流体供给系统，所述流体供给系统配置用于通过改变被提供给入口端口的流体的流量和从出口端口去除的流体的流量来控制经过流体入口的流体的流动。

主权项

一种浸没式光刻设备，所述浸没式光刻设备包括：液体限制系统，所述液体限制系统配置用于将液体限制到投影系统和衬底之间，所述液体限制系统包括：液体供给入口，所述液体供给入口配置用于以一部件朝向衬底和/或配置用于支撑衬底的衬底台引导液体的流动，和提取出口，所述提取出口用于提取从液体供给入口经过其中的液体和来自液体限制系统的外部的气体中的至少一个，所述提取出口位于所述液体限制系统的第一表面中，所述第一表面比液体供给入口所在的第二表面更远离衬底和衬底台中的至少一个。