[发明专利]激光直写装置

摘要

一种激光直写装置，特点之一在于其构成包括刻写光源、离焦检测模块、光谱分光镜、调焦PZT、物镜、二维XY电机平台、Y轴校正平台、待刻样品、激光干涉仪、总控制器和防震台，采用由大行程二维XY电机平台和小行程的Y轴校正平台的组合结构作为样品位移台；特点之二是采用激光干涉仪测量X、Y轴的距离变化，并利用激光干涉仪所发出的位置脉冲信号，同时实现X轴的运动与激光脉冲的同步、X轴在运动过程中Y轴的精密校正。本发明可以在大范围内实现高精度的快速刻写，能够在大范围内刻写任意形状的微纳图形和构造，具有较高的实用价值。

主权项

一种激光直写装置，特征在于其构成包括刻写光源(1)、离焦检测模块(2)、光谱分光镜(3)、调焦PZT(4)、物镜(5)、二维XY电机平台(6)、Y轴校正平台(7)、待刻样品(8)、激光干涉仪(9)、总控制器(10)和防震台(11)，上述部件的位置关系如下：在所述的防震台(11)上设置所述的二维XY电机平台(6)和总控制器(10)，在所述的二维XY电机平台(6)上固定所述的Y轴校正平台(7)，待刻样品(8)置于所述的Y轴校正平台(7)上；所述的刻写光源(1)和离焦检测模块(2)分别位于所述的光谱分光镜(3)的两侧，所述的光谱分光镜(3)与刻写光源(1)和离焦检测模块(2)发出的光束均成45°；所述的调焦PZT(4)与所述的物镜(5)固定连接，以驱动物镜(5)沿Z方向微动进行调焦；所述的激光干涉仪(9)的两面反射镜(9‑1、9‑4)固定在所述的Y轴校正平台(7)的相邻的相互垂直的两个侧面上，两激光头(9‑2、9‑3)固定在所述的防震台(11)上，两激光头(9‑2、9‑3)发射的激光与所述的两面反射镜(9‑1、9‑4)垂直；所述的总控制器(10)分别与所述的刻写光源(1)、离焦检测模块(2)、调焦PZT(4)、二维电机平台(6)、Y轴校正平台(7)、激光干涉仪(9)相连，分别对各个模块或器件进行控制或获取数据。