[发明专利]陶瓷工件及其制造方法无效
申请号: | 201110043609.3 | 申请日: | 2011-02-22 |
公开(公告)号: | CN102627475A | 公开(公告)日: | 2012-08-08 |
发明(设计)人: | 邱耀弘;范淑惠 | 申请(专利权)人: | 晟铭电子科技股份有限公司 |
主分类号: | C04B41/85 | 分类号: | C04B41/85;C04B41/89 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 中国台湾台北市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明揭露一种陶瓷工件及其制造方法,其中陶瓷工件包含了一陶瓷基材以及一嫁接层。嫁接层是以反应性真空镀膜的方式设置于陶瓷基材之上,且嫁接层为碳化金属(MxCy)、氧化金属(MxOy)或氮化金属(MxNy)。嫁接层还可为一成分比例渐变或是厚度渐变的镀层,用以提升陶瓷基材与镀于其上的金属材料的附着性。 | ||
搜索关键词: | 陶瓷 工件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种陶瓷工件,其特征在于,其包含:一陶瓷基材;以及一嫁接层,其设置于所述陶瓷基材的一面上,且所述嫁接层为碳化金属MxCy、氧化金属MxOy或氮化金属MxNy。
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