[发明专利]邻近曝光装置、载台温度控制方法及面板基板的制造方法无效

专利信息
申请号: 201110046021.3 申请日: 2011-02-23
公开(公告)号: CN102193326A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 峯岸学;佐藤隆悟;山家佑太;枝木一郎;渡邉啓 申请(专利权)人: 株式会社日立高科技
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/00;H01L21/67;H01L21/77
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种邻近曝光装置、载台温度控制方法及面板基板的制造方法。该邻近曝光装置,当通过线性马达来驱动用来移动基板的载台时,减小载台的温度变化,从而精度良好地进行图案的烧附。检测载台的温度,当在运转开始时或运转中,在罩幕层(2)被保持于罩幕层架(20)且夹盘(10)上未搭载基板(1)的状态下,检测出的载台的温度小于下限值时,通过线性马达来驱动载台,以进行利用线性马达的热来将载台的温度提高至比下限值高的基准值以上的第1暖机运动。即使在运转开始前或运转中载台的温度降低至小于下限值,曝光处理中的载台的温度变化也较小,从而可精度良好地进行图案的烧附。
搜索关键词: 邻近 曝光 装置 温度 控制 方法 面板 制造
【主权项】:
一种邻近曝光装置,包括:夹盘,搭载基板;罩幕层架,保持罩幕层;载台,移动所述夹盘;以及线性马达,驱动所述载台;其特征在于,此邻近曝光装置包括:检测机构,检测所述载台的温度;以及控制机构,控制所述线性马达,且所述控制机构当在运转开始时或运转中,在罩幕层被保持于所述罩幕层架且所述夹盘上未搭载基板的状态下,由所述检测机构所检测出的所述载台的温度小于下限值时,通过所述线性马达来驱动所述载台,以进行利用所述线性马达的热来将所述载台的温度提高至比下限值高的基准值以上的第1暖机运动。
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