[发明专利]高透明度氧化铈-氧化硅紫外线吸收薄膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 201110047112.9 申请日: 2011-02-28
公开(公告)号: CN102180599A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 崔洪涛 申请(专利权)人: 烟台大学
主分类号: C03C17/23 分类号: C03C17/23
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司 37205 代理人: 李浩成
地址: 264005 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了高透明度氧化铈-氧化硅紫外线吸收薄膜的制备方法,是在室温下将铈的无机盐加入醇中充分搅拌,至形成透明溶液;滴入硝酸将溶液的pH值调节到1~3之间;加入有机硅,搅拌均匀;加入胶凝剂,混合均匀后在室温下搅拌形成溶胶;控制匀胶机的转速在500~2000rpm之间,将溶胶涂覆到玻璃衬底上,干燥形成氧化铈-氧化硅薄膜。本发明所得产物对可见光的透明度在80%以上,可吸收大部分的紫外线,且此薄膜对有机材料的氧化性很低。
搜索关键词: 透明度 氧化 紫外线 吸收 薄膜 制备 方法
【主权项】:
高透明度氧化铈‑氧化硅紫外线吸收薄膜的制备方法,其特征在于,步骤如下:(1)在室温下将铈的无机盐加入醇中充分搅拌,至形成铈离子为0.3~1.2M的透明溶液;(2)滴入硝酸将溶液的pH值调节到1~3之间;(3)加入有机硅,搅拌均匀;(4)加入和金属离子摩尔比率为3~12的胶凝剂,混合均匀后在室温下搅拌2~12小时形成溶胶;(5)控制匀胶机的转速在500~2000rpm之间,将溶胶涂覆到玻璃衬底上,在25~50℃之间干燥形成氧化铈‑氧化硅薄膜。
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