[发明专利]铬二铝碳陶瓷靶材及其真空热压制备方法有效
申请号: | 201110049635.7 | 申请日: | 2011-03-02 |
公开(公告)号: | CN102653470A | 公开(公告)日: | 2012-09-05 |
发明(设计)人: | 储茂友;王星明;陈洋;邓士斌;韩沧;张碧田;段华英;潘德明 | 申请(专利权)人: | 北京有色金属研究总院 |
主分类号: | C04B35/515 | 分类号: | C04B35/515;C04B35/645 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 耿小强 |
地址: | 100088 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种铬二铝碳陶瓷靶材及其真空热压制备方法,包括将铬粉、铝粉和碳粉按照摩尔比2:(1~1.5):1配料,预压制坯;热压炉抽真空至10-1Pa,然后以5~10℃/min的速度升温到600~650℃,保温1~2小时;随后以10~20℃/min的速度升温至1300~1500℃,加压到10~30MPa时,保温保压2~4小时后,降温,降到900-1100℃,泄压至常压;冷却至室温,得到坯料;进行机械加工和电加工,然后清洗、烘干,得到高纯高单相含量铬二铝碳陶瓷靶材。本发明制备的铬二铝碳陶瓷靶材致密度达到97%以上,铬二铝碳化合物相含量达到98~99%,靶材的氧含量低,靶材质量满足涂层制备要求,成本低,适合大尺寸铬二铝碳陶瓷靶材工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 铬二铝碳 陶瓷 及其 真空 热压 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种铬二铝碳陶瓷靶材,其特征在于:所述的陶瓷靶材中铬二铝碳单相含量达到98%~99%。
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